工業(yè)純水系統(tǒng)RO反滲透設(shè)備：

反滲透設(shè)備是將原水經(jīng)過(guò)精細(xì)過(guò)濾器、顆?；钚蕴歼^(guò)濾器、壓縮活性碳過(guò)濾器等，再通過(guò)泵加壓，利用孔徑為1/10000μm（相當(dāng)于大腸桿菌大小的1/6000，病毒的1/300）的反滲透膜（RO膜），使較高濃度的水變?yōu)榈蜐舛人瑫r(shí)將工業(yè)污染物、重金屬、細(xì)菌、病毒等大量混入水中的雜質(zhì)全部隔離，從而達(dá)到飲用規(guī)定的理化指標(biāo)及衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)出至清至純的水，是人體及時(shí)補(bǔ)充優(yōu)質(zhì)水分的選擇.由于RO反滲透技術(shù)生產(chǎn)的水純凈度是目前人類(lèi)掌握的一切制水技術(shù)中zui高的，潔凈度幾乎達(dá)到100%，所以人們稱(chēng)這種產(chǎn)水機(jī)器為反滲透純凈水機(jī)。

反滲透是一種現(xiàn)代新型的純凈水處理技術(shù)。通過(guò)反滲透元件來(lái)提高水質(zhì)的純凈度，清除水中含有的雜質(zhì)和鹽。我們?nèi)粘Ｋ嬘玫募儍羲际墙?jīng)過(guò)反滲透設(shè)備處理的，水質(zhì)清澈。

工業(yè)純水系統(tǒng)RO反滲透設(shè)備

反滲透技術(shù)因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問(wèn)題可能使許多技術(shù)力量不強(qiáng)的用戶(hù)遭受損失，所以要做好反滲透設(shè)備的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴(yán)重的問(wèn)題。

低壓沖洗反滲透設(shè)備

定期對(duì)反滲透設(shè)備進(jìn)行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當(dāng)反滲透設(shè)備進(jìn)水SDI突然升高超過(guò)5.5以上時(shí)，應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗，待SDI值調(diào)至合格后再開(kāi)機(jī)。

反滲透設(shè)備停運(yùn)保護(hù)

由于生產(chǎn)的波動(dòng)，反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運(yùn)，短期或長(zhǎng)期停用時(shí)必須采取保護(hù)措施，不適當(dāng)?shù)靥幚頃?huì)導(dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。

短期保存適用于停運(yùn)15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來(lái)保護(hù)反滲透設(shè)備。實(shí)踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時(shí)，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會(huì)發(fā)臭變質(zhì)，有大量細(xì)菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時(shí)，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時(shí)，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進(jìn)出口閥門(mén)。

長(zhǎng)期停用保護(hù)適用于停運(yùn)15d以上的系統(tǒng)，這時(shí)必須用保護(hù)液（殺菌劑）充入凈水設(shè)備反滲透裝置進(jìn)行保護(hù)。常用殺菌劑配方（復(fù)合膜）為甲醛10（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）。

反滲透膜化學(xué)清洗

在正常運(yùn)行條件下，反滲透膜也可能被無(wú)機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會(huì)引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對(duì)膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此，為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需要對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗。

一般3～12個(gè)月清洗一次，如果每個(gè)月不得不清洗一次，這說(shuō)明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng)，調(diào)整的運(yùn)行參數(shù)。如果1～3個(gè)月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運(yùn)行水平，是否需要改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷

工業(yè)純水系統(tǒng)RO反滲透設(shè)備工藝流程:

原水 → 原水箱 → 原水泵 →多介質(zhì)過(guò)濾器 （石英砂過(guò)濾器）→活性炭過(guò)濾器 →軟水處理器（添加阻垢劑裝置） → 精密過(guò)濾器 → 高壓泵 → 一級(jí)反滲透（RO）裝置 →紫外線殺菌裝置（臭氧殺菌裝置） → 用水點(diǎn)